Physikalische Gasphasenabscheidung
Korvus HEX
Die Physikalische Gasphasenabscheidung ist ein vakuumbasiertes Verfahren zur Beschichtung von Festkörpern. An die Vakuumkammer des Korvus Hex können bis zu drei unterschiedliche Beschichtungs-Quellen montiert werden. Momentan stehen zwei thermische Verdampfungsquellen, eine Elektronenstrahlverdampfungsquelle und eine Sputterquelle zur Verfügung, die beliebig kombiniert werden können. Für die Sputterquelle steht sowohl eine Gleichspannungsnetzteil als auch eine Hochfrequenzquelle zur Verfügung.
Nähere Informationen finden Sie beim Hersteller.
Anwendungsmöglichkeiten im Überblick
Mit dem System können Proben auf folgende Arten beschichtet werden:
- Verdampfungsverfahren
- Thermisches Verdampfen
- Elektronenstrahlverdampfen
- Sputtern
- Gleichspannung für leitende Materialien
- Hochfrequenz, mit der auch Isolatormaterialien gesputtert werden können
Zuständiger Techniker
Boltzmanngasse 5
1090
Wien
Raum: 3341A
E-Mail
+43-1-4277-73803
Nutzung und Nutzungsgebühren
Dieses Gerät kann nach erfolgreicher Einschulung autonom von Mitgliedern der Fakultäten für Chemie und Physik genutzt werden. Eine Nutzung durch Externe ist nicht vorgesehen.
Um dieses Gerät Nutzen zu dürfen, müssen Sie folgende Tests ablegen:
- Allgemeine Sicherheitsrichtlinien für Fakultätsmitglieder
- Sicherheit im Labor
Bitte melden Sie Probleme mit dem Gerät dem zuständigen Techniker.
| Nutzergruppe | Nutzungsgebühren |
|---|---|
| Fakultäten für Physik und Chemie | keine, Verbrauchsmaterialien müssen von den Nutzern selbst gestellt werden |
| Vienna Life Science Instruments | Nutzung nicht möglich |
| Universitäre Nutzer | Nutzung nicht möglich |
| Nicht-Universitäre Nutzer | Nutzung nicht möglich |
Kalender
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Spezifikationen
| Geräteparameter | Wert oder Wertebereich |
|---|---|
| Gleichzeitig mögliche Quellen | 3 |
| Verfügbare Quellen | 2 Boatsources 1 Elektronenstrahlverdampfer 1 Sputtersouce (DC oder AC, wahlweise) |
| Schichtdickenmessung | Quarzwaage |
Downloads
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